n-Dotierung

Im Bereich der Photovoltaik ist die Dotierung ein wichtiger Vorgang. Sie dient dazu, die elektrische Leitfähigkeit des in der Solarzelle befindlichen Halbleitermaterials, meist Silizium, deutlich zu erhöhen. Bei der Dotierung werden Fremdatome, häufig Bor oder Phosphor, in die Kristallstruktur des Halbleiters eingebracht.

Unterscheiden muss man dabei zwischen der n-Dotierung und der p-Dotierung. Die n-Dotierung sieht vor, dass eine frei bewegliche und negative Ladung in die Kristallstruktur eingebracht wird. Aufgrund der negativen Ladung kommt es hier zum Begriff n-Dotierung. Bei der p-Dotierung, die dazu im Gegensatz steht, wird eine positive Lücke im Halbleiter erzeugt, daher auch der Name p-Dotierung.